010-80843871/2
中文 EN
半导体

在晶体的生长与衬度的制备,氧化工艺,外延工艺中有及化学相淀积(CVD)中,均要用到氢气。半导体工业对气体纯度的要求极高,微量杂质的“掺入”,将会改变半导体的表面活性。当硅用氯化氢生成三氯化氯SIHCI3后,经过分镏工艺分离出来,在高温下用氢还原,达到半导体需求的纯度:SIHCI3+H2----Si+3HCI 上述过程中对氢气的纯度要求很高。氢气中含在微量的一氧化碳和二氧化碳杂质会使衬底氧化,生成多晶硅。如果含有甲烷,则会生成碳化硅进入外层,引起缺陷。过去硅外延时,要求含氧量小于1*10-6,露点低于-70C,现在要求更苛刻。水电解制氢更能达到半导行业体对氢气的高要求。

现场设备照片
优点/Advantages
国产水电解制氢系统
北京中电丰业技术开发有限公司为您提供最先进的水电解制氢装置,提供最优的现场制氢、储氢和使用方案。
HG 系列制氢设备的优点
超纯氢气
该设备所产出的氢气纯度高达99.999%以上。系统实时在线监测氢氧纯度,这一功能将延长设备的使用寿命,大幅减少维护量和替换成本。
已证明的可靠性
久耐用的不锈钢部件最大化设备的使用寿命。已证明设备的使用寿命为25年以上。
安装简便
制氢系统采用模块化集成设计,现场安装简单方便。
过程控制严格
产品的设计、材料的选用、加工每一个步骤都严格控制,确保每套设备都高于用户的需要。
按需求产气
- 压力最高可达3.2MPa
- 单台装置氢气产量2-500m3/h
- 根据客户的用氢需求,可以设计生产更高气体产量纯度的设备
客户定制设计
我们可提供客户定制设计的制氢设备,对客户已经存在的厂房设施进行优化整合。专业维护和改造升级老系统
对国内制氢机维护和改造升级有丰富的现场改造经验
安全、无人值守运行
- 全自动运行,系统自带诊断功能
- 系统运行时内部含有最少量的气体,全系统采用无火花本安元件
- 系统冗余控制设计,关联控制
- 可以选配远程监控和运行功能
- 系统正常运行自动运行,无须人工干预。
相关产品/Related Product
地址:
总部地址:
北京市丰台区总部基地时代财富天地航丰路1号1201室
厂部地址:
北京东燕郊国家经济技术开发区留山大街全景工业二期一号楼A座
联系方式:
总部电话:(8610)58090125
总部传真:(8610)58090126
厂部电话:(8610)80843871/2
厂部传真:(8610)80843873
邮箱:Sales@bjzdfy.com.cn
微信
微博